Sistem de ablatie cu laser ESL193 | Elemental Scientific Lasers

Sistemul de ablatie cu laser ESL193 ofera posibilitatea obtinerii unor rezultate mai profunde cu un laser robust si fiabil in domeniul UV adanc, cu puls scurt. Acest sistem utilizeaza un laser excimer de 193 nm, ideal pentru materiale opace si cu transmisie ridicata.

Resurse:

Descriere

Caractersitici cheie:

Flexibilitatea aplicatiilor, rezultate de inalta calitate si precizie.
Noua placa compacta universala si robusta (RUCC) cu montare cinematica pentru laser.
Homogenizarea fasciculului unica pentru un profil si o definitie a craterului de ultima generatie.
Vizualizare de inalta definitie fara egal.
Optiune de diafragma rotativa XYR pentru ablatii patrate si dreptunghiulare.
Diafragma flexibila cu apertura variabila infinita (IVA) pentru selectarea dimensiunii punctului in incrementi de 1 micron.
Optiune pentru al doilea factor de magnificare pentru extinderea intervalului de dimensiuni ale punctului pana la 250 de microni.
Optiune pentru al doilea MFC pentru controlul fluxului de azot (N2).

Caractersitici LASER:
Lungime de unda: 193 nm;
Rata de repetitie: 1-200 Hz (extensibila la 500 Hz si 1000 Hz);
Fluenta: 15 J/cm2 la suprafata esantionului;
Dimensiuni punct: 1-150 microni (extensibila la 250 microni);
Scena XY: 100 mm x 100 mm standard;
Camere de ablatie: TwoVol2;

NU AI GASIT CE CAUTAI?

Echipa noastra este aici sa te ajute! Suna-ne sau lasa-ne un mesaj si un consultant Apel Laser va fi bucuros sa raspunda intrebarilor tale si sa gaseasca solutii personalizate pentru tine.

Cum ati auzit de noi?