Generator de tip High-Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPiMS) | APEL LASER

De ce HiPiMS?

• Densitate și aderență îmbunătățite ale filmului depus;

• Uniformitate crescută a stratului;

• Control precis asupra grosimii și structurii filmului;

• Reducerea deteriorărilor la nivelul substratului;

• Eficiență energetică ridicată și costuri de proces reduse;

• Impact redus asupra mediului.

Caracteristici generale

• Disponibil numai împreună cu sursa de alimentare;

• Tensiune maximă reglabilă (≤ 1200 V);

• Durată de impuls personalizabilă (2 µs – DC);

• Configurație plug-and-play;

• Control activ al arcului.

Specificații tehnice – Seria HiPulse 110M

• Alimentare electrică: 230 V, 60 Hz ±10%, PE

• Putere de intrare (DC): 1 W – 600 W

• Tensiune de intrare (DC): 50V – 1200V

• Curent de intrare (DC): 1 mA – 1000 mA (max.)

• Putere de ieșire în impuls: 60 kW (vârf)

• Tensiune de ieșire în impuls: reglabilă între –50 V și –1200 V

• Curent de ieșire în impuls: 60 A (max.)

• Durată impuls: ≥ 2 µs

• Frecvență de funcționare: 100 Hz – 10 kHz

• Interfață utilizator: Ecran tactil (Touchscreen)

• Ieșire monitorizare tensiune (impuls): BNC, 12 V (max.)

• Ieșire monitorizare curent (impuls): BNC, 3 V (max.)

• Greutate: < 9 kg

Specificații de mediu – Seria HiPulse 110M

• Temperatură de operare: +5 °C până la +40 °C

• Temperatură de depozitare: –25 °C până la +55 °C

• Umiditate relativă: max. 85%, fără condensare

• Răcire: cu aer (air-cooled)

• Conformitate: Marcaj CE